Olcsó árlista speciális gázokhoz China Supply Electron/Semiconductor minőségű 99,999%-os tisztaságú szén-tetrafluorid/tetrafluormetán CF4 gáz ára

„Őszinteség, innováció, szigorúság és hatékonyság” lehet szervezetünk állandó koncepciója, hogy hosszú távon együttműködjünk ügyfeleinkkel a kölcsönös viszonosság és a kölcsönös előnyök érdekében az olcsó árlistában a speciális gázok kínai ellátási elektron/félvezető minőségű 99,999%-os tisztaságú szén-tetrafluorid/tetrafluormetán CF4 gázáraira. Fiatal, fejlődő vállalatként lehet, hogy nem mi vagyunk a legjobbak, de mindent megteszünk, hogy mindig a legjobb partnerei legyünk.
„Őszinteség, Innováció, Szigorúság és Hatékonyság” lehet szervezetünk állandó koncepciója, amely hosszú távon az ügyfelekkel való közös munkára épül a kölcsönös viszonosság és a kölcsönös előnyök érdekében.Kína CF4 és CF4 gáz„Értékteremtés, Ügyfelek Kiszolgálása!” – ez a célunk. Őszintén reméljük, hogy minden ügyfelünk hosszú távú és kölcsönösen előnyös együttműködést alakít ki velünk. Ha többet szeretne megtudni cégünkről, vegye fel velünk a kapcsolatot most!

Műszaki paraméterek

A szén-tetrafluorid egy halogénezett szénhidrogén, amelynek kémiai képlete CF4. Halogénezett szénhidrogénként, halogénezett metánként, perfluor-karbonként vagy szervetlen vegyületként is tekinthető. A szén-tetrafluorid színtelen és szagtalan gáz, vízben oldhatatlan, benzolban és kloroformban oldódik. Normál hőmérsékleten és nyomáson stabil, kerülje az erős oxidálószereket, a gyúlékony vagy éghető anyagokat. Nem éghető gáz, a tartály belső nyomása megnő magas hő hatására, és fennáll a repedés és a robbanás veszélye. Kémiailag stabil és nem gyúlékony. Szobahőmérsékleten csak folyékony ammónia-nátrium fémes reagens működhet. A szén-tetrafluorid egy üvegházhatást okozó gáz. Nagyon stabil, hosszú ideig a légkörben maradhat, és nagyon erős üvegházhatású gáz. A szén-tetrafluoridot különféle integrált áramkörök plazmamaratási folyamatában használják. Lézergázként is használják, valamint alacsony hőmérsékletű hűtőközegekben, oldószerekben, kenőanyagokban, szigetelőanyagokban és infravörös detektorok hűtőfolyadékaiban. Ez a leggyakrabban használt plazmamarató gáz a mikroelektronikai iparban. Nagy tisztaságú tetrafluormetán gáz és nagy tisztaságú tetrafluormetán gáz, valamint nagy tisztaságú oxigén keveréke. Széles körben alkalmazható szilíciumban, szilícium-dioxidban, szilícium-nitridben és foszforsilikát üvegben. A vékonyrétegű anyagok, például a volfrám és a volfrám maratását széles körben alkalmazzák elektronikus eszközök felülettisztításában, napelemgyártásban, lézertechnológiában, alacsony hőmérsékletű hűtésben, szivárgásvizsgálatban és nyomtatott áramkörök gyártásában mosószerként. Alacsony hőmérsékletű hűtőközegként és plazma száraz maratási technológiáként használják integrált áramkörökhöz. Tárolási óvintézkedések: Hűvös, szellőző, nem éghető gázraktárban tárolandó. Tűztől és hőforrásoktól távol tartandó. A tárolási hőmérséklet nem haladhatja meg a 30°C-ot. Könnyen (éghető) éghető anyagoktól és oxidálószerektől elkülönítve kell tárolni, és kerülni kell a vegyes tárolást. A tárolóhelyet szivárgás esetén vészhelyzeti kezelőberendezéssel kell felszerelni.

Alkalmazás:

① Hűtőközeg:

A tetrafluor-metánt néha alacsony hőmérsékletű hűtőközegként használják.

② Maratás:

Elektronikai mikrogyártásban önmagában vagy oxigénnel kombinálva használják plazmamaratóként szilícium, szilícium-dioxid és szilícium-nitrid esetében.

Normál csomag:

Előny:

①Nagy tisztaságú, legújabb létesítmény;

②ISO tanúsítvánnyal rendelkező gyártó;

③Gyors szállítás;

④Online elemzőrendszer a minőségellenőrzéshez minden lépésben;

⑤Magas követelmény és aprólékos folyamat a hengerek kezelésére a töltés előtt;