A lézergázt elsősorban az elektronikai iparban használják lézeres izzításra és litográfiai gázra. A mobiltelefonok képernyőinek innovációjából és az alkalmazási területek bővüléséből hasznot húzva tovább bővül az alacsony hőmérsékletű poliszilícium piac skálája, a lézeres lágyítási eljárás pedig jelentősen javította a TFT-k teljesítményét. A félvezetők gyártásához használt ArF excimer lézerben használt neon, fluor és argon gázok közül a neon a lézergáz keverék több mint 96%-át teszi ki. A félvezető technológia tökéletesedésével megnőtt az excimer lézerek használata, a kettős expozíciós technológia bevezetése pedig az ArF excimer lézerek által fogyasztott neongáz iránti kereslet meredek növekedéséhez vezetett. Az elektronikai speciális gázok honosításának népszerűsítéséből adódóan a hazai gyártóknak jobb piaci növekedési tere lesz a jövőben.
A litográfiai gép a félvezetőgyártás alapvető berendezése. A litográfia meghatározza a tranzisztorok méretét. A litográfiai ipari lánc összehangolt fejlesztése a kulcs a litográfiai gépek áttöréséhez. A megfelelő félvezető anyagok, mint például a fotoreziszt, a fotolitográfiai gáz, a fotomaszk, valamint a bevonó és előhívó berendezések magas technológiai tartalommal rendelkeznek. A litográfiai gáz az a gáz, amelyet a litográfiai gép mély ultraibolya lézert állít elő. A különböző litográfiai gázok különböző hullámhosszú fényforrásokat tudnak előállítani, és ezek hullámhossza közvetlenül befolyásolja a litográfiai gép felbontását, amely a litográfiai gép egyik magja. 2020-ban a litográfiai gépek teljes globális értékesítése 413 darab lesz, amelyből az ASML 258 darab 62%-ot, a Canon 122 darab 30%-ot, a Nikon 33 darab pedig 8%-ot tesz ki.
Feladás időpontja: 2021.10.15
