A lézergázt főként lézeres hőkezelésre és litográfiai gázként használják az elektronikai iparban. A mobiltelefon-képernyők innovációjának és az alkalmazási területek bővülésének köszönhetően az alacsony hőmérsékletű poliszilícium piac mérete tovább bővül, és a lézeres hőkezelési eljárás jelentősen javította a TFT-k teljesítményét. A félvezetők gyártásához használt ArF excimer lézerben használt neon-, fluor- és argongázok közül a neon a lézergáz-keverék több mint 96%-át teszi ki. A félvezető technológia finomodásával az excimer lézerek használata megnőtt, és a kettős expozíciós technológia bevezetése az ArF excimer lézerek által fogyasztott neongáz iránti kereslet meredek növekedéséhez vezetett. Az elektronikai speciális gázok lokalizációjának előmozdításából profitálva a hazai gyártók a jövőben jobb piaci növekedési teret kapnak.
A litográfiai gép a félvezetőgyártás központi berendezése. A litográfia határozza meg a tranzisztorok méretét. A litográfiai iparági lánc összehangolt fejlesztése a litográfiai gépek áttörésének kulcsa. Az olyan illesztett félvezető anyagok, mint a fotoreziszt, a fotolitográfiai gáz, a fotomaszk, valamint a bevonó és fejlesztő berendezések magas technológiai tartalmúak. A litográfiai gáz az a gáz, amellyel a litográfiai gép mély ultraibolya lézert állít elő. A különböző litográfiai gázok különböző hullámhosszú fényforrásokat tudnak előállítani, és hullámhosszuk közvetlenül befolyásolja a litográfiai gép felbontását, amely a litográfiai gép egyik magja. 2020-ban a litográfiai gépek teljes globális értékesítése 413 darab lesz, amelyből az ASML 258 darabos értékesítése 62%-ot, a Canon 122 darabos értékesítése 30%-ot, a Nikon 33 darabos értékesítése pedig 8%-ot tett ki.
Közzététel ideje: 2021. október 15.
