A gyakori fluortartalmú speciális elektronikus gázok közé tartoznak a következők:kén-hexafluorid (SF6), volfrám-hexafluorid (WF6),szén-tetrafluorid (CF4), trifluor-metán (CHF3), nitrogén-trifluorid (NF3), hexafluor-etán (C2F6) és oktafluor-propán (C3F8).
A nanotechnológia fejlődésével és az elektronikai ipar nagymértékű fejlődésével a kereslet napról napra növekedni fog. A nitrogén-trifluorid, mint nélkülözhetetlen és a panelek és félvezetők gyártásában és feldolgozásában leggyakrabban használt speciális elektronikai gáz, széles piaci térrel rendelkezik.
Fluortartalmú speciális gázkéntnitrogén-trifluorid (NF3)a legnagyobb piaci kapacitással rendelkező elektronikai speciális gáztermék. Szobahőmérsékleten kémiailag inert, magas hőmérsékleten aktívabb, mint az oxigén, stabilabb, mint a fluor, és könnyen kezelhető. A nitrogén-trifluoridot főként plazmamaratási gázként és reakciókamra-tisztítószerként használják, és alkalmas félvezető chipek, síkképernyős kijelzők, optikai szálak, fotovoltaikus cellák stb. gyártási területein.
Más fluortartalmú elektronikus gázokhoz képest,nitrogén-trifluoridElőnyei a gyors reakció és a nagy hatékonyság. Különösen a szilíciumtartalmú anyagok, például a szilícium-nitrid maratásakor magas marási sebességgel és szelektivitással rendelkezik, nem hagy maradványokat a maratott tárgy felületén. Emellett nagyon jó tisztítószer, és nem szennyezi a felületet, ami megfelel a feldolgozási folyamat igényeinek.
Közzététel ideje: 2024. szeptember 14.
