A gyakori fluortartalmú speciális elektronikus gázok között szerepelkén hexafluorid (SF6), volfrám -hexafluorid (wf6),Szén -tetrafluorid (CF4), trifluor -metán (CHF3), nitrogén -trifluorid (NF3), hexafluor -etán (C2F6) és oktafluor -propán (C3F8).
A nanotechnológia fejlődésével és az elektronikai ipar nagyszabású fejlődésével a kereslet napról napra növekszik. A nitrogén-trifluorid, mint elengedhetetlen és legnagyobb felhasználású speciális elektronikus gáz, a panelek és a félvezetők gyártásában és feldolgozásában, széles piaci teret kínál.
Mint egyfajta fluortartalmú speciális gáz,Nitrogén -trifluorid (NF3)a legnagyobb piaci kapacitású elektronikus speciális gáztermék. Kémiailag inert szobahőmérsékleten, aktívabb, mint az oxigén magas hőmérsékleten, stabilabb, mint a fluor, és könnyen kezelhető. A nitrogén -trifluoridot elsősorban plazma maratógázként és reakciókamra tisztítószerként használják, és alkalmas félvezető chipek, síkképület kijelzői, optikai szálak, fotovoltaikus sejtek stb.
Összehasonlítva más fluortartalmú elektronikus gázokkal,nitrogén -trifluoridA gyors reakció és a nagy hatékonyság előnyei vannak. Különösen a szilícium-tartalmú anyagok, például a szilícium-nitrid maratásakor magas maratási sebességgel és szelektivitással rendelkezik, így nem marad maradék a maratott tárgy felületén. Ez egy nagyon jó tisztítószer is, és nincs szennyeződése a felszínre, amely megfelel a feldolgozási folyamat igényeinek.
A postai idő: szeptember 14-2024
