A száraz maratási technológia az egyik legfontosabb folyamat. A száraz maratási gáz kulcsfontosságú anyag a félvezető gyártásában és a plazma maratás fontos gázforrása. Teljesítménye közvetlenül befolyásolja a végtermék minőségét és teljesítményét. Ez a cikk elsősorban megosztja az általánosan használt maratási gázokat a száraz maratási folyamatban.
Fluor alapú gázok: példáulSzén -tetrafluorid (CF4), hexafluor -etán (C2F6), trifluor -metán (CHF3) és perfluor -propán (C3F8). Ezek a gázok hatékonyan képesek illékony fluoridokat generálni szilícium- és szilíciumvegyületek maratásakor, ezáltal az anyag eltávolítását elérve.
Klór-alapú gázok: például klór (CL2),Bór -triklorid (BCL3)és szilícium -tetraklorid (SICL4). A klór alapú gázok klorid-ionokat biztosíthatnak a maratási folyamat során, ami elősegíti a maratási sebesség és a szelektivitás javítását.
Bróm alapú gázok: például bróm (BR2) és bróm-jodid (IBR). A bróm-alapú gázok jobb maratási teljesítményt nyújthatnak bizonyos maratási folyamatokban, különösen olyan kemény anyagok, mint a szilícium-karbid maratásakor.
Nitrogén-alapú és oxigén alapú gázok: például nitrogén-trifluorid (NF3) és oxigén (O2). Ezeket a gázokat általában a maratási folyamatban a reakciókörülmények beállítására használják, hogy javítsák a maratás szelektivitását és irányát.
Ezek a gázok az anyag felületének pontos maratását a fizikai porlasztás és a kémiai reakciók kombinációjával érik el a plazma maratás során. A maratási gáz megválasztása a maratni kívánt anyag típusától, a maratás szelektivitási követelményeitől és a kívánt maratási sebességtől függ.
A postai idő: február-08-2025
