Szilán (SiH4)

Műszaki paraméterek

A szilán szilícium és hidrogén vegyülete. Általános elnevezése számos vegyületnek, beleértve a monoszilánt (SiH4), a diszilánt (Si2H6) és néhány magasabb szintű szilícium-hidrogén vegyületet. Közülük a monoszilán a leggyakoribb, néha röviden szilánnak is nevezik. A szilán színtelen gáz, undorító fokhagymaszaggal. Vízben oldódik, etanolban, éterben, benzolban, kloroformban, szilícium-kloroformban és szilícium-tetrakloridban szinte oldhatatlan. A szilánok kémiai tulajdonságai sokkal aktívabbak, mint az alkánoké, és könnyen oxidálódnak. Levegővel érintkezve spontán égés következhet be. 25°C alatt nem reagál nitrogénnel, és szobahőmérsékleten nem reagál szénhidrogén vegyületekkel. A szilán tüze és robbanása az oxigénnel való reakció eredménye. A szilán rendkívül érzékeny az oxigénre és a levegőre. Bizonyos koncentrációban a szilán robbanásszerűen reagál az oxigénnel -180°C hőmérsékleten is. A szilán a félvezető mikroelektronikai folyamatokban használt legfontosabb speciális gázzá vált, és különféle mikroelektronikai filmek, többek között egykristályos filmek, mikrokristályos, polikristályos, szilícium-oxid, szilícium-nitrid és fém-szilicidek előállításához használják. A szilán mikroelektronikai alkalmazásai még mindig mélyrehatóan fejlődnek: alacsony hőmérsékletű epitaxia, szelektív epitaxia és heteroepitaxiális epitaxia. Nemcsak szilícium eszközökhöz és szilícium integrált áramkörökhöz, hanem összetett félvezető eszközökhöz (gallium-arzenid, szilícium-karbid stb.) is. Alkalmazásai vannak a szuperrácsos kvantumkút-anyagok előállításában is. Elmondható, hogy a szilánt a modern korban szinte minden fejlett integrált áramköri gyártósoron használják. A szilán szilíciumtartalmú filmként és bevonatként való alkalmazása a hagyományos mikroelektronikai iparból számos területre, például az acél-, gép-, vegyipari és optika iparba terjedt ki. A szilán egy másik lehetséges alkalmazási területe a nagy teljesítményű kerámia motoralkatrészek gyártása, különösen a szilán szilicid (Si3N4, SiC stb.) mikropor-technológiájának gyártásához való felhasználása egyre nagyobb figyelmet kap.

Alkalmazás:

①Elektronikus:

A szilánt szilícium ostyákon lévő polikristályos szilícium rétegekre alkalmazzák félvezetők és tömítőanyagok gyártásakor.

②Napenergia:

A szilánt napelemes fotovoltaikus modulok gyártásában használják.

③Ipari:

Energiatakarékos zöld üvegben használják, és gőzfázisú vékonyréteg-eljáráshoz alkalmazzák.

Normál csomag:

Előny:

①Több mint tíz éve a piacon;

②ISO tanúsítvánnyal rendelkező gyártó;

③Gyors szállítás;

4. Stabil nyersanyagforrás;

⑤Online elemzőrendszer a minőségellenőrzéshez minden lépésben;

⑥Magas követelmény és aprólékos folyamat a hengerek kezelésére a töltés előtt;

⑦Tisztaság: nagy tisztaságú elektronikus minőségű;

⑧Felhasználás: napelemanyagok; nagy tisztaságú poliszilícium, szilícium-oxid és optikai szálak gyártása; színes üveggyártás.